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一次擴(kuò)徑技術(shù),從6英寸直接擴(kuò)到8英寸!

Wolfspeed、羅姆、II-VI均在2015年就已展示了8英寸碳化硅襯底,其中Wolfspeed投入10億美元建設(shè)新工廠,并在今年4月開始生產(chǎn)8英寸碳化硅等產(chǎn)品;英飛凌在2020年9月宣布其8英寸 SiC晶圓生產(chǎn)線已經(jīng)建成;羅姆旗下SiCrystal公司預(yù)計(jì)2023年左右開始量產(chǎn)8英寸襯底;Soitec在2022年5月發(fā)布了8英寸碳化硅襯底產(chǎn)品,其還在2022年3月啟動(dòng)新晶圓廠建設(shè)計(jì)劃。

國(guó)內(nèi)與國(guó)際,在8英寸碳化硅襯底上的差距更為明顯。

碳化硅8英寸襯底的第一個(gè)技術(shù)難點(diǎn)是籽晶,籽晶雖然可以用激光切割然后拼接的方法來(lái)制作籽晶,但拼接位置的缺陷是幾乎難以去除,可以做晶體生長(zhǎng)基礎(chǔ)研究,量產(chǎn)就不行了。量產(chǎn)用的籽晶還是需要慢慢的擴(kuò)出來(lái),在擴(kuò)的過(guò)程保留品質(zhì)好的晶體進(jìn)行優(yōu)選繁衍,這個(gè)過(guò)程是非常耗時(shí)的,沒(méi)有好的籽晶就不可能繁衍出好的晶體,就如同沒(méi)有好的種子,是不會(huì)長(zhǎng)出好的莊稼一樣。通常每次擴(kuò)徑幾個(gè)毫米,從6英寸擴(kuò)到8英寸擴(kuò)徑時(shí)間甚至按年為單位。

恒普科技提供一個(gè)創(chuàng)新的解決方案,一次性將6英寸擴(kuò)到8英寸的技術(shù)方向,為行業(yè)提供一種新的思路,推進(jìn)國(guó)內(nèi)行業(yè)的8英寸碳化硅襯底國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力。

恒普科技以≤45°晶錠的角度晶體生長(zhǎng)厚度≥30mm,單邊擴(kuò)徑≥25mm,這樣就一次性將晶體擴(kuò)徑≥50mm,實(shí)現(xiàn)從150mm一次性擴(kuò)徑到200mm的技術(shù)路線。

恒普科技當(dāng)下單邊擴(kuò)徑≥20mm,無(wú)多型,微管≤0.05ea/cm2, 生長(zhǎng)速度≥0.3mm/h,導(dǎo)流環(huán)無(wú)TaC涂層;預(yù)計(jì)近期可以達(dá)到單邊25~30mm,并優(yōu)化面型。

示意圖:

擴(kuò)徑的技術(shù)核心難點(diǎn)是:熱場(chǎng)的溫度控制、邊緣多晶、物質(zhì)流傳輸(氣相輸運(yùn))

恒普科技運(yùn)用多年掌握的溫度控制技術(shù),將熱場(chǎng)溫度調(diào)節(jié)為有利于晶體擴(kuò)徑的溫度梯度,并加以調(diào)節(jié)。

氣相組分是產(chǎn)生邊緣多晶的主要原因之一,不合理的氣相組分非常容易產(chǎn)生邊緣多晶,而導(dǎo)致擴(kuò)徑失敗。

與晶體生長(zhǎng)相同,物質(zhì)流對(duì)于擴(kuò)徑也是至關(guān)重要,采用特殊改良的【新工藝】熱場(chǎng),使氣相儲(chǔ)運(yùn)滿足擴(kuò)徑。

晶體擴(kuò)徑實(shí)際圖:

恒普科技?| 零實(shí)驗(yàn)室,致力于材料的基礎(chǔ)研究和創(chuàng)新方向探索。

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